Caracterização de filmes finos de nitreto de titânio/prata com propriedades antimicrobianas depositados por RF Magnetron Sputtering. - Arruda, Antonio Carlos Santos de (2024)
Neste trabalho, filmes de nitreto de titânio com diferentes concentrações de Ag, depositados por Rádio Frequência Magnetron Sputtering, foram avaliados sobre substratos de silício e aço inoxidável. Na fase inicial, filmes de titânio (plasmas com argônio) e nitreto de titânio (plasmas de argônio e nitrogênio) foram depositados sobre substratos de silício. A variação do fluxo de nitrogênio evidenciou a formação de filmes de nitretos de titânio com as orientações (111), (200), (220), (212) e (222). Para a formação dos filmes de nitreto de titânio - prata, a mistura de argônio (19 sccm) e nitrogênio de (25 sccm) a uma potência de 350 W, durante 90 min foi empregada. O aumento da concentração de prata refletiu na taxa de deposição e rugosidade. As análises de morfologia e topográfia, evidenciaram uma distribuição aleatória de particulados brilhantes, o que impactou no acabamento superficial, promovendo uma superficie fosca, limitando a sua aplicação para revestimentos decorativos. O comportamento hidrofóbico (>90) do filme de TiN-Ag foi observado na concentração de prata de (14.6 ± 0.3) at. %. As análises de Espectrometria de Espalhamento Rutherford e Emissão de Raios-X Induzida por Prótons, evidenciaram a distribuição da prata ao longo das espessuras dos filmes depositadas nas diferentes concentrações de Ag utilizadas. Os ensaios microbiológicos evidenciaram uma redução da atividade microbiana para os nitretos de titânio-prata em suas diferentes concentrações de prata para o micro-organismo Staphylococus aureus. Para o micro-organismo Candida albicans a característica fungistática foi constatada.