Gonçalves, T. M. [. (2012). Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID).
Chicago Style CitationGonçalves, Thaís Matiello [UNESP]. Caracterização De Filmes Finos Obtidos Por Deposição De Vapor Químico Assistido a Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (PIIID). 2012.
MLA CitationGonçalves, Thaís Matiello [UNESP]. Caracterização De Filmes Finos Obtidos Por Deposição De Vapor Químico Assistido a Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (PIIID). 2012.
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