Avaliação da composição elementar de filmes finos de ligas metálicas depositados por Arco Catódico Filtrado em Vácuo utilizando RBS e EDS quantitativo - Oblitas, Raissa Lima de (2016)
Devido à relevância de filmes finos, as técnicas que são utilizadas para produzi-los e também para caracteriza-los tem se tornado importante. Neste contexto, foram analisados filmes finos de até 100 nm, de duas ligas metálicas (cromel e alumel), obtidos a partir da deposição por plasma de Arco Catódico Filtrado em Vácuo (Filtered Cathodic Vacuum Arc - FCVA). O objetivo deste projeto foi avaliar a similaridade em composição elementar entre os materiais utilizados para deposição, que operam como cátodos, e os filmes finos depositados, a partir de medições obtidas pela técnica de microanálise quantitativa Energy Dispersive Spectroscopy (EDS). Para comparação entre resultados e apreciação de compatibilidade, foi realizada avaliação estatística considerando o Teste t, no qual a estatística do teste é dada pela Distribuição t de Student, adotando nível de significância de 5%. Os valores obtidos por EDS Quantitativo para os cátodos foram de (em wt%) (90,3 ± 0,5)% de Ni e (9,72 ± 0,19)% de Cr para o cromel e (95,1 ± 0,8)% de Ni, (2,02 ± 0,14)% de Mn, (1,65 ± 0,04)% de Si e (1,15 ± 0,05)% de Al para o alumel. Já para os filmes finos, foram de (90,2 ± 0,5)% de Ni e (9,8 ± 0,5)% de Cr para o cromel e (95,2 ± 0,4)% de Ni, (2,8 ± 0,4)% de Mn, (0,77 ± 0,17)% de Si e (1,08 ± 0,09)% de Al para o Alumel, ambos apresentando compatibilidade com as medidas por Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) - técnica comumente utilizada para este tipo de espécime. Verificou-se que a composição elementar do filme fino de cromel não apresentou diferença significativa com o cátodo da mesma liga. Entretanto, para o filme fino de alumel, houve evidências de diferença significativa com relação ao cátodo, apontada pelo elemento silício.