Silva, R. C. d. (2023). Modelagem da cinética do processo de deposição modificada de vapor químico (MCVD) para o controle do índice de refração em fibras ópticas de sílica para lasers de potência.
Referência de acordo com a norma ChicagoSilva, Rubens Cavalcante da. Modelagem Da Cinética Do Processo De Deposição Modificada De Vapor Químico (MCVD) Para O Controle Do índice De Refração Em Fibras ópticas De Sílica Para Lasers De Potência. 2023.
Referência de acordo com a norma MLASilva, Rubens Cavalcante da. Modelagem Da Cinética Do Processo De Deposição Modificada De Vapor Químico (MCVD) Para O Controle Do índice De Refração Em Fibras ópticas De Sílica Para Lasers De Potência. 2023.
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