Alves, M. F. (2003). Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD.
Referência de acordo com a norma ChicagoAlves, Marcelo Faustino. Estudo Do Comportamento Elétrico De Dispositivos De Potência a Partir Da Otimização Dos Parâmetros De Processo De Deposição Do Filme SIPOS Obtido Por LPCVD. 2003.
Referência de acordo com a norma MLAAlves, Marcelo Faustino. Estudo Do Comportamento Elétrico De Dispositivos De Potência a Partir Da Otimização Dos Parâmetros De Processo De Deposição Do Filme SIPOS Obtido Por LPCVD. 2003.
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