Referência de acordo com a norma APA

Silva, A. N. R. d. (2000). Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces.

Referência de acordo com a norma Chicago

Silva, Ana Neilde Rodrigues da. Estudo E Caracterização Do Processo PECVD-TEOS Para a Deposição De Filmes De óxido De Silício E Estudo Das Interfaces. 2000.

Referência de acordo com a norma MLA

Silva, Ana Neilde Rodrigues da. Estudo E Caracterização Do Processo PECVD-TEOS Para a Deposição De Filmes De óxido De Silício E Estudo Das Interfaces. 2000.

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