Rocha, O. F. d. (2007). Caracterização de filmes finos de óxido de silício depositados em um reator HD-PECVD a partir de TEOS a ultra baixa temperatura.
Referência de acordo com a norma ChicagoRocha, Otávio Filipe da. Caracterização De Filmes Finos De óxido De Silício Depositados Em Um Reator HD-PECVD a Partir De TEOS a Ultra Baixa Temperatura. 2007.
Referência de acordo com a norma MLARocha, Otávio Filipe da. Caracterização De Filmes Finos De óxido De Silício Depositados Em Um Reator HD-PECVD a Partir De TEOS a Ultra Baixa Temperatura. 2007.
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