Referência de acordo com a norma APA

Albertin, K. F. (2003). Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD.

Referência de acordo com a norma Chicago

Albertin, Katia Franklin. Estudo E Fabricação De Capacitores MOS Com Camada Isolante De SiOxNy Depositada Por PECVD. 2003.

Referência de acordo com a norma MLA

Albertin, Katia Franklin. Estudo E Fabricação De Capacitores MOS Com Camada Isolante De SiOxNy Depositada Por PECVD. 2003.

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