Referência de acordo com a norma APA

Torres, A. S. (2002). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD).

Referência de acordo com a norma Chicago

Torres, Ani Sobral. Deposição Química a Vapor De óxido De Silício Assistida Por Plasma De Alta Densidade Acoplado Indutivamente (ICP-CVD). 2002.

Referência de acordo com a norma MLA

Torres, Ani Sobral. Deposição Química a Vapor De óxido De Silício Assistida Por Plasma De Alta Densidade Acoplado Indutivamente (ICP-CVD). 2002.

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