Desenvolvimento de um processo litográfico para microeletrônica. - Yunaka, Nelson Takashi (1995)
A definição e otimização dos processos de fabricação de circuitos integrados é uma das etapas básicas essenciais para obter-se dispositivos semicondutores. É destacado a fotolitografia entre estes processos, com a qual define-se a geometria dos materiais para a construção do dispositivo sobre substratos semicondutores em escala micrométrica. Com o objetivo de estabelecer um processo litográfico e métodos para o seu controle foram estudados as características dos fotorresistes em cada etapa do processo. Usou-se o fotorresiste positivo AZ-1350J. Obteve-se espectros UV, FTIR e análise térmica do fotorresiste. Propõe-se opcções para melhorar o processo litográfico implementado no decorrer do trabalho. Um método para determinação de parâmetros que mais afetam o processo e que pode ser usado para obter-se as melhores condições destes parâmetros é também proposto.