Matta, J. A. S. d. (2001). Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos.
Referência de acordo com a norma ChicagoMatta, José Antonio Sevidanes da. Desenvolvimento E Caracterização De Uma Fonte De Plasma ECR Para Deposição De Filmes Finos. 2001.
Referência de acordo com a norma MLAMatta, José Antonio Sevidanes da. Desenvolvimento E Caracterização De Uma Fonte De Plasma ECR Para Deposição De Filmes Finos. 2001.
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