Prado, R. J. (2001). Análise das propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos de a-Si1-xCx: H depositados por PECVD.
Referência de acordo com a norma ChicagoPrado, Rogério Junqueira. Análise Das Propriedades Químicas, Morfológicas E Estruturais De Filmes Finos De A-Si1-xCx: H Depositados Por PECVD. 2001.
Referência de acordo com a norma MLAPrado, Rogério Junqueira. Análise Das Propriedades Químicas, Morfológicas E Estruturais De Filmes Finos De A-Si1-xCx: H Depositados Por PECVD. 2001.
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