Chaves, M. [. (2014). Efeito da pressão em filmes finos de ZnO: Al por RF Magnetron sputtering reativo.
Referência de acordo com a norma ChicagoChaves, Michel [UNESP]. Efeito Da Pressão Em Filmes Finos De ZnO: Al Por RF Magnetron Sputtering Reativo. 2014.
Referência de acordo com a norma MLAChaves, Michel [UNESP]. Efeito Da Pressão Em Filmes Finos De ZnO: Al Por RF Magnetron Sputtering Reativo. 2014.
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