Estudo eletroquímico e termoanalítico dos sistemas Ir/Hg e Pt - (30%) Ir/Hg - Milaré, Edilson [UNESP] (2004)
Eletrodos laminares de Ir ou Pt-Ir(30%) foram empregados como substratos para deposição eletroquímica de Hg, a partir de soluções contendo íons Hg(I), e remoção deste Hg por meio de voltametria cíclica (VC) ou térmica (termogravimetria / termogravimetria derivada - TG/DTG e calorimetria exploratória diferencial - DSC). A superfície dos eletrodos foi caracterizada empregando-se as técnicas complementares de análise: microscopia eletrônica de varredura (imagens SEM, microanálise por EDX e mapas de distribuição de elementos), microscopia eletrônica de transmissão (imagens TEM, microanálise por EDX e difração de elétrons), difratometria de raios X (XRD) e espectroscopia fotoeletrônica de raios X (XPS). Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Ir/Hg mostram até 3 picos na região de varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD); deposição de Hg volumétrico, e redução de óxidos. A curva de I-E para a varredura de potenciais crescentes mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, que foram atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação de Hg(I) a Hg(II); oxidação de Hg presente no filme sobre a superfície do substrato a Hg(II); oxidação de Hg presente na sub-superfície do eletrodo a Hg(II); formação de óxidos. Os voltamogramas cíclicos obtidos para o sistema Pt-Ir(30%)/Hg mostram até 4 picos na varredura de potenciais decrescentes, que foram atribuídos a: deposição de Hg em regime de subpotencial (UPD) e redução de óxidos, concomitantemente; deposição eletroquímica de Hg volumétrico, e formação de produtos de interação Hg-substrato. Na varredura de potenciais crescentes a curva I-E mostra até 6 picos, dependendo do tratamento empregado, atribuídos a: oxidação de Hg volumétrico a Hg(I); oxidação...