Gonçalves, T. M. [. (2012). Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID).
Referência de acordo com a norma ChicagoGonçalves, Thaís Matiello [UNESP]. Caracterização De Filmes Finos Obtidos Por Deposição De Vapor Químico Assistido a Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (PIIID). 2012.
Referência de acordo com a norma MLAGonçalves, Thaís Matiello [UNESP]. Caracterização De Filmes Finos Obtidos Por Deposição De Vapor Químico Assistido a Plasma (PECVD) E Deposição E Implantação Iônica Por Imersão Em Plasma (PIIID). 2012.
Nota: a formatação da citação pode não corresponder 100% ao definido pela respectiva norma, para gerenciar as citações recomenda-se a utilização do software Zotero
, que permite o upload automático das referências do Oasisbr.