Alvarado Alcocer, J. C. (1999). Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante.
Referência de acordo com a norma ChicagoAlvarado Alcocer, Juan Carlos. Contribuição a Modelagem Computacional De Reatores De Deposição Quimica a Partir Da Fase Vapor Visando O Crescimento De Diamante. 1999.
Referência de acordo com a norma MLAAlvarado Alcocer, Juan Carlos. Contribuição a Modelagem Computacional De Reatores De Deposição Quimica a Partir Da Fase Vapor Visando O Crescimento De Diamante. 1999.
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