Referência de acordo com a norma APA

Felicio, A. G. (2003). Filmes isolantes de SiOxNy formados por implantação de nitrogenio em substrato de silicio e posterior oxidação termica.

Referência de acordo com a norma Chicago

Felicio, Alexandre Gorni. Filmes Isolantes De SiOxNy Formados Por Implantação De Nitrogenio Em Substrato De Silicio E Posterior Oxidação Termica. 2003.

Referência de acordo com a norma MLA

Felicio, Alexandre Gorni. Filmes Isolantes De SiOxNy Formados Por Implantação De Nitrogenio Em Substrato De Silicio E Posterior Oxidação Termica. 2003.

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