Biasotto, C. (2005). Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVD.
Referência de acordo com a norma ChicagoBiasotto, Cleber. Obtenção E Caracterização De Filmes Finos De Oxido, Nitreto E Oxinitreto De Silicio Por Deposição ECR-CVD. 2005.
Referência de acordo com a norma MLABiasotto, Cleber. Obtenção E Caracterização De Filmes Finos De Oxido, Nitreto E Oxinitreto De Silicio Por Deposição ECR-CVD. 2005.
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