Alves, M. A. R. (1996). Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C: H) por plasma de RF.
Referência de acordo com a norma ChicagoAlves, Marco Antonio Robert. Deposição De Filmes Finos De Carbono Amorfo Hidrogenado (a-C: H) Por Plasma De RF. 1996.
Referência de acordo com a norma MLAAlves, Marco Antonio Robert. Deposição De Filmes Finos De Carbono Amorfo Hidrogenado (a-C: H) Por Plasma De RF. 1996.
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