Carnio, C. V. (2018). Eletrodos de porta MOS planar e 3D baseados em TiN obtido por evaporação de Ti e nitretação por plasma ECR.
Referência de acordo com a norma ChicagoCarnio, Carlos Vinícius. Eletrodos De Porta MOS Planar E 3D Baseados Em TiN Obtido Por Evaporação De Ti E Nitretação Por Plasma ECR. 2018.
Referência de acordo com a norma MLACarnio, Carlos Vinícius. Eletrodos De Porta MOS Planar E 3D Baseados Em TiN Obtido Por Evaporação De Ti E Nitretação Por Plasma ECR. 2018.
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