Participação do silício nos processos de absorção, translocação e atenuação da toxicidade do arsênio em alface (Lactuca sativa L.) - Gomes Filho, Antonio Aristides Pereira (2022)
O arsênio (As) causa a superprodução de espécies reativas de oxigênio (EROs) que acarreta danos em todo o metabolismo vegetal. Plantas contaminadas representam sério risco à saúde, visto que o consumo de alimentos contaminados é uma das formas de intoxicação em seres humanos. O silício é um elemento benéfico para plantas e reconhecido por aliviar o estresse abiótico, incluindo o estresse por As. Portanto, buscamos avaliar o efeito do silício, iônico e nanoparticulado, na mitigação do estresse por As em alface. Para isso, plantas de alface foram cultivadas hidroponicamente por 40 dias e, após aclimatação por 5 dias, foram submetidas a 50 μM de arsenito (As III ) e arsenato (As V ) e 2 mM de silício iônico (Si) e silício nanoparticulado (SiNP) durante dois períodos de exposição (24 e 72 h). Foram realizadas análises relacionadas a anatomia, fotossíntese e bioquímica dessas plantas. Os resultados mostraram que o As, tanto As III quanto As V , causa efeitos negativos sobre todos os parâmetros avaliados e ambas as formas de silício foram capazes de diminuir o estresse por As, por meio da diminuição da absorção e da concentração nas folhas, melhoria nos aspectos anatômicos e modulação da maquinaria antioxidante, onde se destaca uma reduzida peroxidação lipídica. Além disso, contatamos que nanopartículas de silício são tão eficientes quanto a forma iônica na diminuição do estresse por As. Palavras-chave: Estresse oxidativo. Sistema antioxidante. Nanopartículas de silício.