Lima, L. L. F. (2023). Estudo da deposição a plasma utilizando nova configuração de gaiola catódica: Avaliada através da deposição de filme fino de MOS2 em Aço AISI 1020.
Referência de acordo com a norma ChicagoLima, Luciano Lucas Fernandes. Estudo Da Deposição a Plasma Utilizando Nova Configuração De Gaiola Catódica: Avaliada Através Da Deposição De Filme Fino De MOS2 Em Aço AISI 1020. 2023.
Referência de acordo com a norma MLALima, Luciano Lucas Fernandes. Estudo Da Deposição a Plasma Utilizando Nova Configuração De Gaiola Catódica: Avaliada Através Da Deposição De Filme Fino De MOS2 Em Aço AISI 1020. 2023.
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