Influência da técnica de deposição de Filmes Eletrocrômicos de WO3 - Coimbra, Giovani Lucas (2024)
Este trabalho consiste no estudo da caracterização e análise das propriedades ópticas, estruturais, morfológicas e eletroquímicas dos filmes finos de trióxido de tungstênio (WO3 e WO3 dopado com ácido oxálico) em substrato ITO, para aplicação como eletrodo de trabalho em dispositivos eletrocrômicos. Janelas inteligentes, desenvolvidas a partir de vidros eletrocrômicos, minimizam o consumo de energia de uma edificação, proporcionando ao usuário o controle de quando permitirá ou não, a passagem da radiação solar, alterando suas propriedades ópticas (coloração) através da aplicação de um potencial elétrico, podendo ser revertido invertendo a polarização deste potencial. O filme fino foi produzido através de diferentes técnicas de deposição: dip-coating e spin-coating. As soluções de WO3 e WO3 dopado com ácido oxálico, foram preparadas pelo processo sol-gel. Após a preparação, as soluções precursoras foram depositadas sobre substratos ITO, previamente limpos, através das técnicas dip-coating e spin-coating para a confecção dos filmes finos. As caracterizações foram realizadas através de técnicas eletroquímicas como voltametria cíclica, cronoamperometria, cronocoulometria e espectroscopia de impedância eletroquímica. As informações morfológicas, estruturais e ópticas foram extraídas por meio de microscopia de força atômica (AFM), por difração de raios-X e por espectroscopia UV Vis. Ao final, o comportamento desses filmes eletrocrômicos de WO3 puro e o dopado com ácido oxálico obtidos através dos diferentes métodos de deposição, foram comparados e avaliados.