Preparação e Caracterização de Arranjos Magnéticos Extensos Obtidos por Litografia Óptica de Escrita Direta - FRANÇA, Claudio Abreu de (2013)
Este trabalho teve como principais objetivos a exploração e o controle da técnica de Litografia Óptica de Escrita Direta na preparação de arranjos magnéticos extensos e de boa qualidade. Foram preparadas microestruturas à base de Permalloy e realizamos a caracterização morfologia e magnética desses sistemas. Os objetos obtidos pela técnica de microlitografia foram círculos e elipsóides cujas dimensões se restringiram a alguns micrômetros e foram dispostos em uma matriz quadrada contendo milhares destes elementos. Além de utilizar o DWL66 da HEIDELBERG instruments para a fabricação das máscaras de fotoresina, também foi utilizado o plasma etching para a limpeza do substrato antes e depois do processo de escrita. A deposição do material magnético foi utilizando magnetron sputtering DC. Ainda na preparação, foi confeccionada uma câmara para iluminação das amostras, com o intuito de aperfeiçoar o processo de sensibilização da fotoresina e assim minimizar a presença de resíduos decorrentes da etapa de remoção pelo revelador. Para a caracterização estrutural das amostras foram feitas análises por microscopia óptica, microscopia de Força Atômica e microscopia eletrônica de varredura. As imagens obtidas por essas técnicas revelaram arranjos extensos de boa qualidade e estruturas cujas dimensões e formas obedeciam à regularidade desejada, indicando a aplicabilidade da técnica e a confiabilidade em reproduzir estruturas. No que diz respeito à caracterização magnética, utilizou-se um Magnetômetro de Amostra Vibrante para obtenção de curvas de magnetização em função do campo aplicado.