Feil, A. F. (2006). Deposição e caracterização de filmes finos de TiOx formados por DC Magnetron Sputtering reativo: Estudo de transição estrutural.
Referência de acordo com a norma ChicagoFeil, Adriano Friedrich. Deposição E Caracterização De Filmes Finos De TiOx Formados Por DC Magnetron Sputtering Reativo: Estudo De Transição Estrutural. 2006.
Referência de acordo com a norma MLAFeil, Adriano Friedrich. Deposição E Caracterização De Filmes Finos De TiOx Formados Por DC Magnetron Sputtering Reativo: Estudo De Transição Estrutural. 2006.
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